📅 09-09
تعمل ASML على الترويج لحلول الأقنعة ذات الحجم الكبير High-NA EUV، والتي تستهدف الإنتاج الضخم في عام 2033 وتحسين الكفاءة بنسبة 40%
الملخص: تعمل ASML مع العملاء لتطوير أقنعة أكبر للجيل التالي من معدات الطباعة الحجرية High-NA EUV. ومن المتوقع أن يجعل هذ